Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
670
8.69a. Niderwald Н., Loux S. et el. Ion assisted deposition of oxide materials at room temperature by use of different ion sours // Appl. Optics. — 2000. — V. 38. — N 16. — P. 3610-3613.
8.696. Tsai R., Shiau S. et el. Ion assisted codeposition of CaF2 — rich CaF2 — Ti02 composites as infrared — transmiting films // Appl. Optics. — 1999. — V. 38. — N 25. — P. 5452.
8.70. Парфенов О. Д. Технология микросхем. — М.: Высш. шк., 1977. — 255 с.
8.71. Ennos A. Stress Developed in Optical Film Coatings // Appl. Optics. — 1965. — V. 5. — N 1. — P. 51.
8.72. Соколова P. С., Лиуконен P. А. и др. Оптические покрытия для СО-лазера // Тез. докл. IV Всесоюзной конф. «Оптика лазеров». — Л., 1984. — С. 279.
8.73. Панасенко Б. В., Гайнутдинов И. С. и др. Оптические покрытия для С02-лазеров // Тез. докл. IV Всесоюзной конф. «Оптика лазеров». — Л., 1984. — С. 275.
8.74. Введенский В. Д., Метельников А. А., Столов Е. Г., Фурман Щ. А.
Ахроматические просветляющие покрытия на основе тугоплавких окислов // ОМП. — 1980. — №11. — С. 31-35.
8.75. Первеев А. Ф., Гудкова К. В., Поплавский А. А., Соколова Р. С. и др. Развитие работ по оптическим покрытиям в ВНЦ «ГОИ им. С. И. Вавилова» // Оптический журнал. — 1993. — №2. — С. 4-14.
8.76. Baumeister P. Starting disinges computer optimization of optical coating // Appl. Optics. — 1995. — V. 34. — N 22. — P. 4835.
8.77. Котлнков E. H., Терещенко Г. В. Использование халькогенидных соединений для изготовления просветляющих покрытий в средней ИК-облас-ти спектра // Оптический журнал. — 1997. — № 3. — С. 110-115.
8.78. Сухорукое Ю. П. н др. ИК-просветляющие покрытия для охлаждаемых элементов // Оптический журнал. — 1995. — №2. — С. 70-71.
8.79. Соколова Р. С. Светоделительные призмы со слоями из диэлектриков // ОМП. — 1970. — №5. — С. 50-52.
8.80. Глебов В. Н., Малютин А. М., Якунин В. П. Поглощение в интерференционных покрытиях оптических элементов технологических С02-лазеров // Оптический журнал. — 1992. — №4. — С. 56-58.
8.81. Елисеев Е. Н., Фадеева Э. И., Зворыкин В. Д. Лазерная прочность оптических материалов и покрытий для эксимерных ArF- и KrF-лазеров // Оптический журнал. — 1996. — № 2. — С. 40-48.
8.82. Соколова Р. С., Пашкова Н. А. Интерференционные зеркала с повышенной отражательной способностью для ИК-области спектра // Тр. международной конф. «Прикладная оптика-2000». — Т. 2. — СПб., 2000. — С. 42.
8.83а. Борисов А. Н., Гайнутдинов И. С. и др. Высокоотражающие зеркала с малыми потерями для прецизионных лазерных систем // Оптический журнал. — 1994. — №2. — С. 68.
8.836. Аубакнров Р. Г. Исследование и разработка многополосных диэлектрических зеркал и дихроических элементов для лазеров с преобразованием частоты // Автореф. канд. дисс. — Л., 1986.
8.84а. Марков Ю. Н., Яфаева В. Б., Ахмадеев М. К. Широкополосные интерференционные фильтры // Оптический журнал. — 1992. — № 2. — С. 27.
8.846. Марков Ю. Н. Широкополосные интерференционные фильтры // Оптика и спектроскопия. — 2000. — Т. 89. — № 2. — С. 864.
8.85. Полнонский В. Б., Гайнутдинов И. С. Полосовые фильтры на основе Ge и SiO // Тез. докл. Всесоюзной конф. «Теория и практика алмазной и абразивной обработки деталей и мишеией». — М.: МВТУ, 1973. — С. 45.
8.86. Елисеев Е. Н., Фадеева Э. И., Миллер В. Т., Первеев А. Ф. Сверхмно-гослойные интерференционные УФ-фильтры с глубоким подавлением в широкой области спектра // Технология изготовления оптических элементов (Матер, научно-технич. сем.) — СПб., 1996. — С. 61.
8.87. Марциновский В. А. и др. Условия формирования асимметричных кольцевых покрытий клиновидного сечения // ОМП. — 1984. — № 9. — С. 12.
671
8.88. Жданова Л. А., Придатко Г. Д. Исследование оптических свойств интерференционных поляризаторов в области 0,250-1,2 мкм // ОМП. — 1984. — № 6. — С. 7.
8.89. Миллер В. Т., Первеев А. Ф. Устройство для ионной очистки подложки и полировки слоев // Оптический журнал. — 1993. — №2. — С. 72-75.
8.90. Мнллер В. Т., Пашкова Н. А., Первеев А. Ф., Соколова Р. С. Повышение адгезионной прочности оптических покрытий для ИК-области спектра // Технология изготовления прецизионных элементов (Матер, научно-технич. сем.). — СПб., 1996. — С. 64.
8.91. Несмелое Е. А. и др. Расчет оптических постоянных тонких пленок // Аналитический обзор №4983 ЦНИИТЭИ. — М., 1990.
8.92. Rosenstok Н., Gregory D. A., Harrington J. A. Infrared bulk and surface adsorption nearly transparent crystals // Appl. Optics. — 1976. — V. 15. — P. 2075.
8.93. Несмелое E. А., Никитин А. С., Гусев А. Г., Иванов О. H. Измерение энергии адгезии тонких пленок // ОМП. — 1982. — № 10. — С. 34.
8.94. Иванов Б. Н. и др. Прибор для определения адгезии оптических покрытий методом царапания // ОМП. — 1988. — № 2. — С. 34.
8.95. Мешков Б. Б., Яковлев П. П. Получение пленок А1203 для оптических целей методом магнетронного распыления на переменном токе // Оптический журнал. — 2000. — № 9. — С. 69.
8.96. Sillivan В. Т., Clarke S. A. et el. High-rate automated deposition system for manufacture of complex multilayer coatings // Appl. Optics. — 2000. — V. 39. — N 1. — P. 157.
