Справочник технолога-оптика - Окатов М.А.
ISBN 5-7325-0236-Х
Скачать (прямая ссылка):
Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуру, кг .................................................. 10
Полезная площадь напыления, м2 .......................... 0,65
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,1-1,0
Диапазон температуры нагрева подложек, °С ............... 50-320
Число резистивных испарителей (РИ) ...................... 1
Максимальная мощность РИ, кВт ........................... 4
Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)............... 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт .......................... 6
Фотометрический контроль толщины ........................ СФКТ-801У
Диапазон фотометрического контроля, нм .................. 200-2800
Максимальное число слоев, получаемых в одном технологическом цикле под управлением АСУТП ...................... 32
Максимальная потребляемая мощность, кВт.................. 40
Общая площадь, занимаемая установкой, м2................. 8
Масса, кг ............................................... 2150
585
Вакуумная установка ВУ-2МИ (*) отличается от установки ВУ-2ММ тем, что она оснащена ионным низкоэнергетическим источником «АИДА» (см. п. 9.15.5), который позволяет осуществлять ионно-лучевую очистку поверхности подложки и ионно-лучевое ассистирование в процессе нанесения пленки.
Дополнительные технические характеристики вакуумной установки ВУ-2МИ
Разрядный ток ионного источника, А ........................ 5
Среднее напряжение анода при разряде, В ................... 30-50
Ионный ток источника, А.................................... 1
Апертура ионного пучка, 0 ................................. 40
Максимальная потребляемая мощность, кВт.................... 32
Общая площадь, занимаемая установкой, м2 .................. 6
Масса, кг ................................................. 2200
Вакуумная установка ВУ-800У предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным кварцевым и фотометрическим контролем толщины покрытий в автоматическом режиме процесса напыления с управлением от встроенной автоматизированной системы управления на базе микроЭВМ с дисплеем, обеспечивает возможность нанесения покрытий по заданной программе.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-800У
Время достижения давления 5 ¦ 10-4 Па, мин, не более .... 30
Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре .... 130
Полезная площадь напыления, м2 .......................... 0,82
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,1-1,0
Диапазон температуры нагрева подложек, “С ............... 50-320
Число резистивных испарителей (РИ) ...................... 2
Максимальная мощность РИ, кВт ........................... 4
Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)............... 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт .......................... 12
Фотометрический контроль ................................ СФКТ-801У
Диапазон фотометрического контроля, нм .................. 200-2800
Число программ покрытий ................................. 4
Число независимых программ нанесения одиночных слоев . . 60
Число типов материалов пленки, задаваемых в конструкции
покрытия................................................. 20
Расход холодной воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 5-20 °С, л/с...................................... 0,28
Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 105 Па и температуре 80-90 °С, л/с ...................................... 0,11
Средний расход жидкого азота, м3/с ...................... (7 + 20) 10'7
Сжатый воздух давлением, Па.............................. (4 + 6) 105
Внутренние габаритные размеры камеры, мм ................ 0 800 х 900
Максимальная потребляемая мощность, кВт.................. 40
Общая площадь, занимаемая установкой, м2................. 7
Масса, кг ............................................... 3180
Вакуумная установка ВУ-11 OO-Optic (*) предназначена для нанесения покрытий методами электронно-лучевого и резистивного
586
испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим и кварцевым контролем толщины покрытий в автоматическом режиме процесса напыления. Предусмотрена возможность ионно-лучевого ассистирования процесса осаждения пленки.
Технические характеристики вакуумной установки ВУ-1 lOO-Optic
Время достижения давления 6 ¦ 10-4 Па, мин, не более .... 30
Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуру, кг .............................................. 50
Полезная площадь напыления, м2 ........................ 0,75
Частота вращения подколпачной арматуры, с-1 .......... 0,1-1,0
Число резистивных испарителей (РИ) .................... 2
Максимальная мощность РИ, кВт ......................... 6
Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)............. 2
Максимальная мощность ЭЛИ, кВт ........................ 20
Фотометрический контроль толщины ...................... СФКТ-751В
Диапазон фотометрического контроля, нм ................ 200-1100
